不鏽鋼拋光容器表麵處理技術詳情
一、拋光(guāng)等級標準
1. 機械拋光等(děng)級(按ASTM A480):
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等級
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表麵粗糙度Ra
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應用場景
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2B
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0.4–0.6 μm
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工業(yè)容器、一般化(huà)工設備
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No.4
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0.3–0.5 μm
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食品、製藥(yào)低潔淨度區(qū)域
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No.8
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≤0.2 μm
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鏡麵(miàn)拋光,GMP無菌區
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2. 電解(jiě)拋(pāo)光(guāng)等級(按ASTM B912):
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o EP-Level 1:Ra≤0.2 μm(顯微平整(zhěng)度提升(shēng))
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o EP-Level 2:Ra≤0.1 μm(超高潔淨(jìng)度要(yào)求)
二、機械拋光工藝
1.工藝(yì)流程:
粗磨(60–120目)→ 中磨(mó)(150–320目)→ 精拋(400–800目)→ 鏡麵拋(1000目以上)
2.關鍵技術參數:
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o 拋光輪轉(zhuǎn)速:800–1800 rpm(依砂粒粒度調整(zhěng))
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o 壓(yā)力控製:0.1–0.3 MPa(避(bì)免過熱(rè)變(biàn)形)
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o 冷卻(què)方式:水冷(lěng)/乳(rǔ)化液冷卻(溫度<50°C)
3.材料適配性:
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o 304/316L:適合所有等級拋光(guāng)
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o 雙相鋼2205:需降低(dī)轉速防過熱σ相析出
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o 哈氏合金:需專用拋光膏防汙染(rǎn)
三、電解(jiě)拋光工藝
1.原理:
陽極溶解+鈍化膜形成,實現微觀平整(可去除10–30 μm表層)
2.電解液配方:
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o 磷酸基:H₃PO₄ 60% + H₂SO₄ 20% + H₂O 20%(適用304/316)
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o 環保型:檸檬酸+乙二醇(適用於敏(mǐn)感設備)
3.工藝參數:
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參數
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範圍
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影響
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電(diàn)壓(yā)
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8–15 V
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決定溶解速率
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電流密度
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10–30 A/dm²
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影響表麵光澤度
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溫度
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50–70°C
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溫度過高易過腐蝕
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時間(jiān)
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3–10 min
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依初始粗糙度調整
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四、特殊表麵(miàn)處理
1.鈍化處(chù)理(按ASTM A967):
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o 硝酸鈍(dùn)化:20–50% HNO₃,40–60°C,浸泡20–60 min
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o 檸檬酸鈍化:4–10%濃度,60–80°C,環保替代方案
2.塗層增強
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o PTFE塗層:厚度0.2–0.5 mm,耐強酸(suān)(HF除(chú)外)
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o 陶瓷塗(tú)層:Al₂O₃或ZrO₂,耐磨耐(nài)高溫
五、質量檢測標準
1.粗糙度檢測
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o 接觸式(shì):指針粗糙度儀(精度±0.01 μm)
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o 非接觸式:激光共(gòng)聚焦顯微鏡(3D形貌分析)
2.潔(jié)淨度驗證
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o 殘留物:ATP生物熒光檢(jiǎn)測(RLU<1000)
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o 鐵汙染:鐵氰化鉀(jiǎ)試紙測試(無(wú)藍斑)
3.耐腐蝕測試
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o 鹽霧試驗:中性鹽霧500 h無鏽蝕(ASTM B117)
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o 藍點試驗:銅硫酸銨溶液(yè)檢測鈍化效果
六(liù)、應用場景選(xuǎn)擇
1.製藥行業
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o 注射用(yòng)水罐:電解拋光+鈍化(Ra≤0.2 μm)
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o 發酵罐:機械拋光No.4+鈍化(Ra=0.3–0.5 μm)
2.食品(pǐn)行業
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o 乳品罐:機械拋光No.4(Ra=0.3–0.5 μm)
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o 啤酒發酵罐:機械拋光(guāng)2B+電解拋光(Ra≤0.4 μm)
3.半導體行(háng)業
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o 高(gāo)純化學品(pǐn)罐:電解拋光EP-Level 2(Ra≤0.1 μm)
注:表麵處理需根據介質腐(fǔ)蝕性、潔淨度要求和成本綜(zōng)合選(xuǎn)擇,建議提供具體工況由專業廠商設(shè)計處理(lǐ)方案。無錫益騰可(kě)為您實現容器的(de)按要求製作和表麵處(chù)理工作。