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拋光設備


不鏽鋼拋光容器表麵處理技術詳情

一、拋光(guāng)等級標準

1. 機械拋光等(děng)級(按ASTM A480):

等級 表麵粗糙度Ra 應用場景
2B 0.4–0.6 μm 工業(yè)容器、一般化(huà)工設備
No.4 0.3–0.5 μm 食品、製藥(yào)低潔淨度區(qū)域
No.8 ≤0.2 μm 鏡麵(miàn)拋光,GMP無菌區

2. 電解(jiě)拋(pāo)光(guāng)等級(按ASTM B912):

  • o EP-Level 1:Ra≤0.2 μm(顯微平整(zhěng)度提升(shēng))
  • o EP-Level 2:Ra≤0.1 μm(超高潔淨(jìng)度要(yào)求)

二、機械拋光工藝

1.工藝(yì)流程:

粗磨(60–120目)→ 中磨(mó)(150–320目)→ 精拋(400–800目)→ 鏡麵拋(1000目以上)

2.關鍵技術參數:

  1. o 拋光輪轉(zhuǎn)速:800–1800 rpm(依砂粒粒度調整(zhěng))
  2. o 壓(yā)力控製:0.1–0.3 MPa(避(bì)免過熱(rè)變(biàn)形)
  3. o 冷卻(què)方式:水冷(lěng)/乳(rǔ)化液冷卻(溫度<50°C)

3.材料適配性:

  1. o 304/316L:適合所有等級拋光(guāng)
  2. o 雙相鋼2205:需降低(dī)轉速防過熱σ相析出
  3. o 哈氏合金:需專用拋光膏防汙染(rǎn)

三、電解(jiě)拋光工藝

1.原理:

陽極溶解+鈍化膜形成,實現微觀平整(可去除10–30 μm表層)

2.電解液配方:

  1. o 磷酸基:H₃PO₄ 60% + H₂SO₄ 20% + H₂O 20%(適用304/316)
  2. o 環保型:檸檬酸+乙二醇(適用於敏(mǐn)感設備)

3.工藝參數:

參數 範圍 影響
電(diàn)壓(yā) 8–15 V 決定溶解速率
電流密度 10–30 A/dm² 影響表麵光澤度
溫度 50–70°C 溫度過高易過腐蝕
時間(jiān) 3–10 min 依初始粗糙度調整

四、特殊表麵(miàn)處理

1.鈍化處(chù)理(按ASTM A967):

  1. o 硝酸鈍(dùn)化:20–50% HNO₃,40–60°C,浸泡20–60 min
  2. o 檸檬酸鈍化:4–10%濃度,60–80°C,環保替代方案

2.塗層增強

  1. o PTFE塗層:厚度0.2–0.5 mm,耐強酸(suān)(HF除(chú)外)
  2. o 陶瓷塗(tú)層:Al₂O₃或ZrO₂,耐磨耐(nài)高溫

五、質量檢測標準

1.粗糙度檢測

  1. o 接觸式(shì):指針粗糙度儀(精度±0.01 μm)
  2. o 非接觸式:激光共(gòng)聚焦顯微鏡(3D形貌分析)

2.潔(jié)淨度驗證

  1. o 殘留物:ATP生物熒光檢(jiǎn)測(RLU<1000)
  2. o 鐵汙染:鐵氰化鉀(jiǎ)試紙測試(無(wú)藍斑)

3.耐腐蝕測試

  1. o 鹽霧試驗:中性鹽霧500 h無鏽蝕(ASTM B117)
  2. o 藍點試驗:銅硫酸銨溶液(yè)檢測鈍化效果

六(liù)、應用場景選(xuǎn)擇

1.製藥行業

  1. o 注射用(yòng)水罐:電解拋光+鈍化(Ra≤0.2 μm)
  2. o 發酵罐:機械拋光No.4+鈍化(Ra=0.3–0.5 μm)

2.食品(pǐn)行業

  1. o 乳品罐:機械拋光No.4(Ra=0.3–0.5 μm)
  2. o 啤酒發酵罐:機械拋光(guāng)2B+電解拋光(Ra≤0.4 μm)

3.半導體行(háng)業

  1. o 高(gāo)純化學品(pǐn)罐:電解拋光EP-Level 2(Ra≤0.1 μm)
注:表麵處理需根據介質腐(fǔ)蝕性、潔淨度要求和成本綜(zōng)合選(xuǎn)擇,建議提供具體工況由專業廠商設(shè)計處理(lǐ)方案。無錫益騰可(kě)為您實現容器的(de)按要求製作和表麵處(chù)理工作。

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