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拋光設備


不鏽鋼拋光容器表麵(miàn)處理技術詳情(qíng)

一、拋光等級標準

1. 機械拋光等級(按ASTM A480):

等級 表麵粗糙度Ra 應用場景
2B 0.4–0.6 μm 工業容器、一般化工設備
No.4 0.3–0.5 μm 食品、製藥低潔淨度(dù)區域
No.8 ≤0.2 μm 鏡麵拋光,GMP無(wú)菌區

2. 電解拋光等級(按ASTM B912):

  • o EP-Level 1:Ra≤0.2 μm(顯微平整度提升)
  • o EP-Level 2:Ra≤0.1 μm(超高潔淨度要求)

二、機械拋光工藝

1.工藝(yì)流程:

粗磨(60–120目)→ 中磨(150–320目)→ 精拋(400–800目)→ 鏡麵拋(pāo)(1000目以上)

2.關鍵(jiàn)技術參數:

  1. o 拋光輪轉速:800–1800 rpm(依砂粒粒度調(diào)整)
  2. o 壓力控製:0.1–0.3 MPa(避免過(guò)熱(rè)變形)
  3. o 冷卻方式:水冷/乳化液冷卻(què)(溫度<50°C)

3.材料適配性:

  1. o 304/316L:適合所有等級拋光(guāng)
  2. o 雙相鋼2205:需降低轉速防過熱σ相析出
  3. o 哈氏合金:需專用拋光膏防汙染

三(sān)、電解拋光工藝

1.原理:

陽(yáng)極溶解+鈍化膜形成,實現微觀平(píng)整(可去除10–30 μm表(biǎo)層)

2.電解液配方:

  1. o 磷酸基:H₃PO₄ 60% + H₂SO₄ 20% + H₂O 20%(適用304/316)
  2. o 環(huán)保型:檸(níng)檬酸+乙二醇(適用於敏感設備)

3.工(gōng)藝參數:

參數 範圍 影響
電壓 8–15 V 決(jué)定溶解(jiě)速率
電流密度 10–30 A/dm² 影響表(biǎo)麵光澤度(dù)
溫度 50–70°C 溫度過高易過腐蝕
時間 3–10 min 依初始粗糙度調整(zhěng)

四、特殊表麵處理

1.鈍化處理(按ASTM A967):

  1. o 硝酸鈍化:20–50% HNO₃,40–60°C,浸泡(pào)20–60 min
  2. o 檸檬酸鈍化:4–10%濃度(dù),60–80°C,環保替代方案

2.塗層增強

  1. o PTFE塗層:厚度0.2–0.5 mm,耐強酸(HF除外)
  2. o 陶瓷塗層:Al₂O₃或ZrO₂,耐磨耐高溫

五、質量檢測標準

1.粗糙度檢測

  1. o 接觸式:指針粗糙度儀(精度±0.01 μm)
  2. o 非接觸式:激光共聚(jù)焦顯微鏡(3D形貌分析)

2.潔淨度驗證

  1. o 殘(cán)留物:ATP生物熒光檢測(RLU<1000)
  2. o 鐵汙染:鐵氰化鉀試紙測試(無藍斑)

3.耐(nài)腐蝕(shí)測試(shì)

  1. o 鹽霧試(shì)驗(yàn):中性鹽霧(wù)500 h無鏽蝕(ASTM B117)
  2. o 藍點試驗:銅硫酸銨溶液檢測鈍化效果

六、應用場景選擇

1.製藥行業

  1. o 注射用(yòng)水罐:電解拋光(guāng)+鈍化(Ra≤0.2 μm)
  2. o 發酵罐:機械拋(pāo)光(guāng)No.4+鈍化(Ra=0.3–0.5 μm)

2.食品行業

  1. o 乳品罐:機械拋光No.4(Ra=0.3–0.5 μm)
  2. o 啤酒發酵罐:機械拋(pāo)光2B+電解(jiě)拋光(Ra≤0.4 μm)

3.半導體行業

  1. o 高純化學品罐:電解拋(pāo)光EP-Level 2(Ra≤0.1 μm)
注:表麵處理需根據介質腐蝕性、潔淨度要求和成(chéng)本綜合(hé)選擇(zé),建議提供具體工況由專業廠商設計處(chù)理方案。無錫益騰可(kě)為您實現容器的(de)按要求製作和表(biǎo)麵處(chù)理工作。

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