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拋光設備


不鏽鋼拋光容器表(biǎo)麵處(chù)理技術詳情

一、拋光等級標準

1. 機械拋光等級(按ASTM A480):

等級 表(biǎo)麵粗糙(cāo)度Ra 應(yīng)用場景
2B 0.4–0.6 μm 工業容器、一般化工(gōng)設備
No.4 0.3–0.5 μm 食品、製藥低潔淨度區域
No.8 ≤0.2 μm 鏡麵拋光,GMP無菌區

2. 電解拋(pāo)光等級(按ASTM B912):

  • o EP-Level 1:Ra≤0.2 μm(顯微平整度提(tí)升)
  • o EP-Level 2:Ra≤0.1 μm(超高潔淨度要求)

二、機械拋(pāo)光工藝(yì)

1.工藝流程:

粗磨(60–120目)→ 中磨(150–320目)→ 精拋(400–800目)→ 鏡麵拋(1000目以上)

2.關鍵技術參數:

  1. o 拋光輪轉速:800–1800 rpm(依砂粒粒度調(diào)整)
  2. o 壓力控製:0.1–0.3 MPa(避免過熱變形)
  3. o 冷卻方式:水冷(lěng)/乳化液冷卻(溫度<50°C)

3.材料適配性:

  1. o 304/316L:適合所有等級拋光(guāng)
  2. o 雙相鋼2205:需降低轉速防過熱σ相析出(chū)
  3. o 哈氏合金:需專用拋光膏防汙染

三、電(diàn)解拋光工藝

1.原理:

陽極溶解+鈍化膜形(xíng)成,實現微觀平整(可去除10–30 μm表層(céng))

2.電解液配方:

  1. o 磷(lín)酸基(jī):H₃PO₄ 60% + H₂SO₄ 20% + H₂O 20%(適用304/316)
  2. o 環保型:檸檬酸+乙二醇(適用(yòng)於敏感設備)

3.工藝參(cān)數(shù):

參數 範圍 影響(xiǎng)
電(diàn)壓 8–15 V 決定(dìng)溶解速率
電流密度 10–30 A/dm² 影響表麵光(guāng)澤度(dù)
溫度 50–70°C 溫度過(guò)高易過腐(fǔ)蝕(shí)
時間 3–10 min 依初始粗糙度調整

四、特殊表麵處理(lǐ)

1.鈍化處理(按ASTM A967):

  1. o 硝(xiāo)酸鈍化(huà):20–50% HNO₃,40–60°C,浸泡20–60 min
  2. o 檸檬酸鈍化:4–10%濃度,60–80°C,環保替代方案

2.塗層增強

  1. o PTFE塗層:厚度0.2–0.5 mm,耐強酸(HF除外)
  2. o 陶(táo)瓷塗層:Al₂O₃或ZrO₂,耐磨耐高溫

五、質量檢測(cè)標準

1.粗糙度檢測

  1. o 接觸式:指針粗糙度儀(精度±0.01 μm)
  2. o 非接觸式:激光共聚焦顯微鏡(3D形貌分析)

2.潔淨度驗證

  1. o 殘留物:ATP生物熒光檢測(RLU<1000)
  2. o 鐵(tiě)汙染:鐵氰化(huà)鉀試紙測試(無藍斑)

3.耐腐蝕測試

  1. o 鹽(yán)霧試驗:中性鹽霧500 h無鏽(xiù)蝕(ASTM B117)
  2. o 藍點試驗:銅(tóng)硫酸銨溶液檢測鈍化效果

六、應用場(chǎng)景(jǐng)選擇

1.製藥行業

  1. o 注射用水罐:電解拋光+鈍化(Ra≤0.2 μm)
  2. o 發酵罐:機械拋光No.4+鈍化(huà)(Ra=0.3–0.5 μm)

2.食品行業

  1. o 乳品罐(guàn):機械拋光No.4(Ra=0.3–0.5 μm)
  2. o 啤酒發酵罐:機械拋光2B+電解拋光(Ra≤0.4 μm)

3.半導體行業

  1. o 高純化學品罐:電解拋光EP-Level 2(Ra≤0.1 μm)
注:表麵處(chù)理需根據介質腐蝕性、潔淨度要求和成本綜合選擇,建議提供具體工況由(yóu)專業(yè)廠商(shāng)設計處理方案。無錫益騰可為您實現容器(qì)的按要(yào)求製作和表麵處理工作(zuò)。

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