不鏽鋼拋光容器表(biǎo)麵處(chù)理技術詳情
一、拋光等級標準
1. 機械拋光等級(按ASTM A480):
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等級
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表(biǎo)麵粗糙(cāo)度Ra
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應(yīng)用場景
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2B
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0.4–0.6 μm
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工業容器、一般化工(gōng)設備
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No.4
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0.3–0.5 μm
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食品、製藥低潔淨度區域
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No.8
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≤0.2 μm
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鏡麵拋光,GMP無菌區
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2. 電解拋(pāo)光等級(按ASTM B912):
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o EP-Level 1:Ra≤0.2 μm(顯微平整度提(tí)升)
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o EP-Level 2:Ra≤0.1 μm(超高潔淨度要求)
二、機械拋(pāo)光工藝(yì)
1.工藝流程:
粗磨(60–120目)→ 中磨(150–320目)→ 精拋(400–800目)→ 鏡麵拋(1000目以上)
2.關鍵技術參數:
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o 拋光輪轉速:800–1800 rpm(依砂粒粒度調(diào)整)
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o 壓力控製:0.1–0.3 MPa(避免過熱變形)
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o 冷卻方式:水冷(lěng)/乳化液冷卻(溫度<50°C)
3.材料適配性:
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o 304/316L:適合所有等級拋光(guāng)
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o 雙相鋼2205:需降低轉速防過熱σ相析出(chū)
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o 哈氏合金:需專用拋光膏防汙染
三、電(diàn)解拋光工藝
1.原理:
陽極溶解+鈍化膜形(xíng)成,實現微觀平整(可去除10–30 μm表層(céng))
2.電解液配方:
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o 磷(lín)酸基(jī):H₃PO₄ 60% + H₂SO₄ 20% + H₂O 20%(適用304/316)
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o 環保型:檸檬酸+乙二醇(適用(yòng)於敏感設備)
3.工藝參(cān)數(shù):
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參數
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範圍
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影響(xiǎng)
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電(diàn)壓
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8–15 V
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決定(dìng)溶解速率
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電流密度
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10–30 A/dm²
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影響表麵光(guāng)澤度(dù)
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溫度
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50–70°C
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溫度過(guò)高易過腐(fǔ)蝕(shí)
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時間
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3–10 min
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依初始粗糙度調整
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四、特殊表麵處理(lǐ)
1.鈍化處理(按ASTM A967):
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o 硝(xiāo)酸鈍化(huà):20–50% HNO₃,40–60°C,浸泡20–60 min
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o 檸檬酸鈍化:4–10%濃度,60–80°C,環保替代方案
2.塗層增強
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o PTFE塗層:厚度0.2–0.5 mm,耐強酸(HF除外)
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o 陶(táo)瓷塗層:Al₂O₃或ZrO₂,耐磨耐高溫
五、質量檢測(cè)標準
1.粗糙度檢測
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o 接觸式:指針粗糙度儀(精度±0.01 μm)
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o 非接觸式:激光共聚焦顯微鏡(3D形貌分析)
2.潔淨度驗證
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o 殘留物:ATP生物熒光檢測(RLU<1000)
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o 鐵(tiě)汙染:鐵氰化(huà)鉀試紙測試(無藍斑)
3.耐腐蝕測試
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o 鹽(yán)霧試驗:中性鹽霧500 h無鏽(xiù)蝕(ASTM B117)
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o 藍點試驗:銅(tóng)硫酸銨溶液檢測鈍化效果
六、應用場(chǎng)景(jǐng)選擇
1.製藥行業
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o 注射用水罐:電解拋光+鈍化(Ra≤0.2 μm)
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o 發酵罐:機械拋光No.4+鈍化(huà)(Ra=0.3–0.5 μm)
2.食品行業
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o 乳品罐(guàn):機械拋光No.4(Ra=0.3–0.5 μm)
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o 啤酒發酵罐:機械拋光2B+電解拋光(Ra≤0.4 μm)
3.半導體行業
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o 高純化學品罐:電解拋光EP-Level 2(Ra≤0.1 μm)
注:表麵處(chù)理需根據介質腐蝕性、潔淨度要求和成本綜合選擇,建議提供具體工況由(yóu)專業(yè)廠商(shāng)設計處理方案。無錫益騰可為您實現容器(qì)的按要(yào)求製作和表麵處理工作(zuò)。